某半导体材料制造技术公司因晶圆刷洗环节生产含氨废水净化处理方法，用水量200吨/天。废水净化处理方法中除化学需氧量外还富含氟化物和进样器天价属，净化处理難度大。当地人尾气排放细则让化学需氧量＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废水处理方法有效成分及主要来源 晶圆清理废液（通常主要来源）：含氯离子200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀工步污水：含少量铜、镍等天价属，pH值下跌大 CMP研磨机生产废水：含硅小粒及氟化物 治疗工艺设计流程图 所采用"化学式沉积+膜提取+折点氯化"结合加工： 预处里 ：加药CaCl2除氟，操纵pH在7.5-8. 超滤膜系统的 ：彻底清除0.01μm以上的颗粒剂物 反渗浸提 ：将氧化还原电位精炼至1000mg/L超过 折点氯化 ：精确性管控氯添加量，将氟化物和转化了为氦气 亚铁离子交流 ：保证高价属未达标 以后成效 氧化还原电位不稳定性＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属成分大于的检测限 水循环率达75% 工业废水生成量才能减少40%